Reve 2.0

Reve 2.0

通过基于布局的控制生成和编辑 4K 图像

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关于产品

Reve 2.0 使用布局优先模型生成和编辑 4K 图像,该模型将每个图像分割成可寻址区域。适合需要精确构图控制的设计师、营销人员和创意团队。

发布者

发布日期2026-06-09

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