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Reve 2.0
通过基于布局的控制生成和编辑 4K 图像
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Reve 2.0 使用布局优先模型生成和编辑 4K 图像,该模型将每个图像分割成可寻址区域。适合需要精确构图控制的设计师、营销人员和创意团队。
发布者
PH 新产品
发布日期
2026-06-09
分类
设计工具
标签
#设计工具
#
#社交媒体市场营销
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